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dc.contributor.authorHaindl, Michael
dc.contributor.authorSchalkhammer, Thomas
dc.contributor.authorPalkovits, Roland
dc.date.accessioned2019-04-23T23:32:49Z-
dc.date.available2019-04-23T23:32:49Z-
dc.date.issued2019-04
dc.identifier.otherFFH2019_127
dc.identifier.urihttp://ffhoarep.fh-ooe.at/handle/123456789/1347-
dc.subjectAPCVD
dc.subjectSiliziumdioxid
dc.subjectTEOS
dc.subjectGasphasenbeschichtung
dc.titleEntwicklung einer katalytischen APCVD Anlage zur Abscheidung von SiO2 Schichten
Enthalten in den Sammlungen:304) Postersession 4

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