Entwicklung einer katalytischen APCVD Anlage zur Abscheidung von SiO2 Schichten
| dc.contributor.author | Haindl, Michael | |
| dc.contributor.author | Schalkhammer, Thomas | |
| dc.contributor.author | Palkovits, Roland | |
| dc.date.accessioned | 2019-04-23T23:32:49Z | |
| dc.date.available | 2019-04-23T23:32:49Z | |
| dc.date.issued | 2019-04 | |
| dc.identifier.other | FFH2019_127 | |
| dc.identifier.uri | http://ffhoarep.fh-ooe.at/handle/123456789/1347 | |
| dc.subject | APCVD | |
| dc.subject | Siliziumdioxid | |
| dc.subject | TEOS | |
| dc.subject | Gasphasenbeschichtung | |
| dc.title | Entwicklung einer katalytischen APCVD Anlage zur Abscheidung von SiO2 Schichten |
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