Entwicklung einer katalytischen APCVD Anlage zur Abscheidung von SiO2 Schichten
Date
2019-04
Authors
Haindl, Michael
Schalkhammer, Thomas
Palkovits, Roland
Schalkhammer, Thomas
Palkovits, Roland
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Abstract
Description
Keywords
APCVD, Siliziumdioxid, TEOS, Gasphasenbeschichtung