Entwicklung einer katalytischen APCVD Anlage zur Abscheidung von SiO2 Schichten

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2019-04

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APCVD, Siliziumdioxid, TEOS, Gasphasenbeschichtung

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http://ffhoarep.fh-ooe.at/handle/123456789/1347

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304) Postersession 4

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