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Titel: Entwicklung einer katalytischen APCVD Anlage zur Abscheidung von SiO2 Schichten
Autoren: Haindl, Michael
Schalkhammer, Thomas
Palkovits, Roland
Stichwörter: APCVD
Siliziumdioxid
TEOS
Gasphasenbeschichtung
Erscheinungsdatum: Apr-2019
URI: http://ffhoarep.fh-ooe.at/handle/123456789/1347
Enthalten in den Sammlungen:304) Postersession 4

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